| 詳細說明
典型工藝流程
(水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
· 預處理－反滲透－ 水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象
· 預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象
· 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象
· 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5µm精密過濾器－用水對象
應用場合
· 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
· 超純材料和超純化學試劑；
· 實驗室和中試車間
· 汽車、家電表面拋光處理；
· 其他高科技精微產品. |
